東弘二氧化硅拋光液是以高純度硅粉為原料，經特殊工藝生產的一種高純度低金屬離子型拋光產品。廣泛用于多種材料納米級的高平坦化拋光。如：硅片、化合物晶體、精密光學器件、寶石等的拋光加工。

根據不同的拋光要求可分為不同粒度（10~150 nm）的產品。根據pH值的不同可分為酸性拋光液和堿性拋光液。

東弘二氧化硅拋光液的特點：

1、高拋光速度，利用大粒徑的膠體二氧化硅粒子達到高速拋光的目地.

2、粒度可控，根據不同需要，可生產不同粒度的產品（10-150 nm）

3、高純度（Cu含量小于50 ppb），有效減小對電子類產品的沾污.

高平坦度加工，本品拋光利用SiO2的膠體粒子，不會對加工件造成物理損傷，達到高平坦化加工.

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